1.标配参数：单枪、 离子源、 晶控、23公分的射频源、 热阻蒸、 顶部侧部加热、 两个扩散泵、一个螺丝泵、一个机械泵

2.特征：磁密封驱动的基板旋转式可得到稳定和均匀的膜厚分布

3.配备：配备RF离子源以提高膜的耐摩擦性；用于防污膜（AS 膜）批量生产；防污膜（AS 膜）批量生产。

4.性能：达到压强7.0E-5Pa以下

5.配置参数：

真空室 Ф2350mm×H 1400mm

基板架 Ф2200 mm

基板架转速 20rpm

晶振式膜厚计 6点式⽔晶传感器

蒸发源 电⼦枪1台，热阻蒸

达到压强 7.0E-5Pa 以下

排强时间 15分以下（压强〜2.0×10-3 Pa）

6.工作条件：

设备尺寸 约6300mm (W)×9000mm (D) ×4000mm (H)

电源 3相,200v,50/60Hz,约80KVA

水流量 220升/分以上

空气压力 0.5-0.7mpa

重量 约12000kg