电容析去离子系统
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MCDI技术革新
1、 现有电容吸附法没有离子膜,水流直接冲刷碳电极,碳颗粒掉落的情况会持续发生;而MCDI由于膜电极中离子膜的遮挡和包覆,水流不直接冲刷碳电极,而是从离子膜之间流过,加上我们特殊的碳电极加工方法,长期使用造成碳电极冲刷掉落的情况不会出现。
2、 当反接电极时,因为离子隔膜的作用,使得从电极上脱附的离子,只能回到溶液或水中,无法吸附到对面电极上,从而使电极得到充分的清洗,再开始下一次吸附,提高了离子去除率和装置的运行效率;传统的电容吸附去离子技术由于没有离子膜隔离,导致脱附过程中离子再次吸附到对面极板上,严重影响脱附效果,导致处理效率降低。
。
发布时间:2023-02-02 10:09:53
联系电话:010-51267884 王经理
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