为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软水器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透系统、离子交换混床（EDI电除盐）系统等。系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用全自动或PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
半导体清洗超纯水设备制备工艺：
　1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→复床→混床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）
2、预处理→双级反渗透系统→中间水箱→增压泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）
　3、预处理→反渗透系统→中间水箱→中间水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）
　4、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→混床→抛光混床→纯水泵→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）
应用场合：
1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；
2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液；
3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水；
4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；
5、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液；
6、晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制；